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意法半導(dǎo)體研發(fā)中心樁基工程施工方案
  • 資料等級(jí):
  • 授權(quán)方式:資料共享
  • v發(fā)布時(shí)間:2008-04-02
  • 資料類型:RAR
  • 資料大小:275 KB
  • 資料分類:建筑設(shè)計(jì)
  • 運(yùn)行環(huán)境:WinXp,Win2003,WinVista,Win ;
  • 解壓密碼:civilcn.com
本次施工內(nèi)容為第一期工程,由一幢地下一層、地上四層的辦公樓組成,建筑面積約為29000 m2,其中地下室面積為8900 m2,一層面積為5500 m2,二層建筑面積為5650 m2, 三層建筑面積約為4150 m2,四層及機(jī)房建筑面積約為4800m2。建筑物總高度為22.1m,建筑物總長(zhǎng)約為195.9m,總寬約為44m。地下室主要功能為地下停車庫(kù)等輔助用房,地上結(jié)構(gòu)主要功能為高檔辦公樓。
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